上海伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 140

因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。

上海伯東代理美國原裝進口 KRI 射頻離子源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子束刻蝕. 在離子束濺射工藝中，射頻離子源 RFICP 140 配有離子光學元件, 可以很好的控制離子束去濺射靶材, 實現(xiàn)完美的薄膜特性. 同樣的在離子束輔助沉積和離子束刻蝕工藝中, 最佳的離子光學元件能夠完成發(fā)散和聚集離子束的任務. 就標準的型號而言, 可以在離子能量為 100~1000 eV 范圍內獲得很高的離子密度. 可以輸出最大 600 mA 離子流

KRI 射頻離子源 RFICP 140 技術參數(shù):

KRI 射頻離子源 RFICP 140 應用領域：

預清洗

表面改性

輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD,

濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC

離子濺射沉積和多層結構

離子蝕刻 IBE 

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經 40 年改良及發(fā)展已取得多項專利. KRi 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

若您需要進一步的了解考夫曼離子源, 請參考以下聯(lián)絡方式

上海伯東: 鄧小姐           

T: +86-21-5046-3511 ext 109   

F: +86-21-5046-1490     

M: +86 1391-883-7267     

臺灣伯東: 王小姐

T: +886-3-567-9508 ext 161

F: +886-3-567-0049

M: +886-939-653-958

現(xiàn)部分品牌誠招合作代理商, 有意向者歡迎聯(lián)絡上海伯東 鄧小姐 1391-883-7267
上海伯東版權所有, 翻拷必究！